IAMUE
Sketch 3.6 带来了许多新的更新，终于盼来了文本渲染和SVG的改进，以及性能增强和bug修复。
固定基准
之前不一致的基线导致在设计的时候出现了很多问题，新的版本中当改变一个文本图层的字体和字体大小时，该图层出现的基线将永远保持原来的地方。
当你有一个新的文本图层时，将使用“自动”行的高度，此外，文本层自动线的高度正好对齐文本的的高度。
除了这一点，对于多行文本基线一般捕捉现在使用的第一条基线，而不是最后一次。所有这些变化产生了一个更可预测的垂直节奏。而且文字粗细菜单中的文本现在垂直居中。
更好的控制字符间距
当你的文本内容超过文字图层的字符间距时，也无需担心，因为它可以设置为“自动”，允许应用字体的本地字距调整。
更好用的蒙版
当两个或者更多的形状选择了“使用蒙版”启用的时候，可以更加自如被使用，快捷键 （^⌘M），看起来更加直观。
改进SVG处理
SVG的导入和导出现在支持混合模式，包括对群体的阴影导出时。
改善了复杂文档的性能
缩放时，滚动和对画布进行移动的时侯你会发现明显快了很多。当使用大的文件，或与外部显示器工作时，性能上都提高了许多，这样有助于减少CPU的功耗。
改善了视网膜或高DPI图像
对于非Retina视网膜屏幕提供了更准确的呈现，改善了高DPI图像的处理。
译者: by @我是UE网 Smiler
原文链接 ：https://medium.com/@sketchapp/sketch-3-6-cfe049992e11#.rkoodop7l
